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专利: 一种硅片掩膜制绒工艺

时间:2019-12-17 来源:未知 作者:hhittc 点击:
  公开(公告)日:2014-06-17
专利号:201410271292.2
    专利类型:实用新型专利
   申请(专利权)人:徐州工业职业技术学院
    发明人:权祥 王元庆 颜续 周琳 焦富强 邓敏
   专利简介: 一种硅片掩膜制绒工艺,在硅片加工过程中,先用匀胶机在硅片表面涂覆一层厚度均匀且具有自身收缩性的混合硅溶胶,然后在硅溶胶涂层表面均匀沉积一层碳粉,经烘干或者静置处理后,硅片表面形成具有整齐结构掩膜层,相应面积的硅片表面由于硅溶胶收缩而裸露,然后按常规生产工艺对掩膜后的硅片表面进行酸腐蚀、清洗脱膜,即可形成规则且有规律的绒面。本发明工艺能制备出均匀的绒面,且经本发明制备的绒面,不仅可以扩大对太阳光谱中不同波长的吸收,极大地减少反射率,从而能进一步的提升太阳电池的光电转化效率,提升整体的经济效益,降低单位产能的生产成本。